更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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Max1000℃！石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能です
株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系 RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線加熱による急速昇温、クリーン加熱が簡単にできます。
・円筒上真空チャンバー外周には、８個の真空ポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用。 ・上面が大きく開き、試料の設置・取出し作業が容易にできる。
独自開発した気密構造！安定した雰囲気制御が可能な高温・真空ロータリキルン
『電気加熱高温・真空ロータリキルン（特殊雰囲気・大気）』は、高砂の独自開発した気密構造により、安定した雰囲気制御が可能な連続炉です（特許取得済み）。 石英・特殊金属などのレトルトの使用により、金属では出来ない高温処理が可能です。 各種粉体原料、金属系材料、その他の用途に適しています。 【特長】 ○キルンタイプ：外熱式ロータリキルン ○回転攪拌による均一、短時間加熱が可能 ○窒素、水素、酸素、その他各種雰囲気ガスの利用に対応可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
N2ガスパージで光輝処理が可能な真空熱処理炉
『NVPTシリーズ』は、真空パージ後N2ガスを大気圧直下まで封入し 対流加熱を行うため、酸素、水分などの存在がなく光輝処理が可能な 真空パージ雰囲気焼戻し炉です。 本製品はオプションで高真空仕様（油拡散ポンプ装備）、高温仕様を ご用意しております。 【特長】 ■温度分布性能の向上のため、シール性の優れたバンク構造、 ヒータの円周配置、3分割制御 ■セラミックファイバーを使用した円筒形加熱室、対流加熱/冷却ファン、 熱交換器を容器内に配置 ■加熱方式は対流加熱以外に真空加熱も可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
最高で2200℃まで加熱が可能！8、40、100リッターが選べる真空炉・高温熱処理炉
グラファイト、モリブデン、ニ珪化モリブデン発熱体による電気 加熱のチャンバー炉として設計された製品
超高真空脱ガス炉
【特長】 ハロゲンランプ等の電極の充填、脱ガス等、真空熱処理を行う炉です。 高真空のため排気系としてはターボ分子ポンプを使用しております。 【仕様】 到達圧力：5X10-6Pa 常用圧力：X10-4Pa 最高加熱温度：2400℃ 常用加熱温度：2000℃ 高周波電源：40KW 均熱帯：30パイx30H（2000℃±2%）
真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのUV・加熱などに最適！
「PU-201-V型」は最高温度200℃対応の真空UV照射バッチ炉です。 小型バッチ炉タイプで、真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。
「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
傾動速度、傾動角度の自動制御が可能！駆動系及び炉内雰囲気を精密に制御します
『真空誘導溶解炉』は、導電ルツボ及び非導電性ルツボの 両方の加熱が可能です。 駆動系及び炉内雰囲気を精密に制御いたします。 また、傾動速度、傾動角度の自動制御が可能なほか、 小型10kg～大型300kgまで可能です。 【仕様】 ■加熱方式：高周波誘導加熱 ■高周波誘導発振機：80kW ■加熱温度：最高1700℃ ■溶解材料：Fe、Co、Au、Ag、Cu、Ni、Ti、各種合金等 ■ルツボ：カーボングラファイト、アルミナ、マグネシア等 ■充填量：10～300kg ■炉内雰囲気：真空又は不活性ガス雰囲気 ■真空排気装置：油回転ポンプ, メカニカルブースターポンプ、油拡散ポンプ ■到達真空度：1.3×10(-3) Pa以下(空炉、常温) ■制御盤：タッチパネル、シーケンサー制御(加熱、雰囲気、傾動) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利用可能！
『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲：最高450℃ ■到達圧力：10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ：30通り ■試料棚：2段 ■各種オーダーメイドも製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
専用タンクへのギ酸の移し変えが不要！お客様がご準備した瓶やタンクをそのままご使用いただけます
『MPXシリーズ』は、MPXシリーズは加熱冷却一体型の独立チャンバー モジュールを複数基設置可能なギ酸還元真空リフロー炉で、大量生産に 適しています。 ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要。 また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが可能。 IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を組み合わせた 当社独自の加熱冷却機構を搭載しています。 【特長】 ■当社独自のガスジェネレーターを搭載、瞬間的な気化を実現 ■IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を 組み合わせた当社独自の加熱冷却機構を搭載 ■加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献 ■専用タンクへのギ酸の移し変えが不要 ■当社独自の分解処理ユニットを搭載、排気中のギ酸を完全に無害化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
高品質を要求される電子部品・精密機械部品等の光輝加熱や、リール材・パイプ材の熱処理に最適です
RAV型は、前面横扉を開閉してワークの出し入れを行いますので、作業がしやすく、加熱炉・冷却装置・真空機器が 一体となったコンパクトな設備です。 真空ポンプにより減圧した後、清浄な雰囲気ガスを送入して加熱しますので、炉内の空気置換をより完全に、 より短時間で行うと共に、パージガス量を大幅に節約！ 水素・窒素・アルゴンなどのガス雰囲気を使用するとともに、熱風循環により講師恵能の温度分布を保証します。 プログラム昇温と加熱終了後の強制冷却機構がありますので、効率良く無人自動運転ができます。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
幅広い冷却ガス圧に対応する真空熱処理炉
『RQシリーズ』は、シンプルな冷却ガス上下切替機構を搭載した 高圧加圧ガス冷却横型真空炉です。 オプションとして対流加熱機能の付加が可能。 循環ファンによる対流加熱は850℃まで昇温でき、真空加熱（放射加熱）の 欠点である低温での昇温遅れを大幅に改善します。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ドアを採用し加圧下での安全性向上 ■圧力損失の少ない流路設計で大きなガス流量 ■冷却ファンに連続定格のモータ採用で、低温域の冷却速度の低下防止 ■可動式ガス流ガイド装置により、ワークへの冷却ガス分布の均一性を向上 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
電気炉・温度制御のプロフェッショナル技術集団 フルテック株式会社
フルテックは、制御関係を最も得意とする真空機器・加熱装置・周辺機器の総合メーカーです。 設計・製造・販売・納入・メンテナンスまで一貫体制でお届けします。 【製品のご案内】 ○フルテック電気炉 ○ヒーター関連 ○制御関連 ○計装機器関連 ○真空関連 ○排気ガス対策関連 ○焼成治具 ●詳しくはお問合せ、またはカタログをダウンロードしてください。
当社独自の分解処理ユニットを搭載！排気中のギ酸を完全に無害化します
『モデル：SQ1』は、1チャンバーに加熱冷却機構を備えたコンパクトな バッチタイプのギ酸還元真空リフロー炉で、研究開発や少量生産に 適しています。 ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要。 また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが可能。 専用タンクへのギ酸の移し変えが不要なため、お客様がご準備した瓶や タンクをそのままご使用いただけます。 【特長】 ■当社独自のガスジェネレーターを搭載、瞬間的な気化を実現 ■IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を 組み合わせた当社独自の加熱冷却機構を搭載 ■加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献 ■専用タンクへのギ酸の移し変えが不要 ■当社独自の分解処理ユニットを搭載、排気中のギ酸を完全に無害化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
直接通電加熱方式による高速加熱が可能！サイクルタイム8時間以内が可能！
新興窯業が保有する、各種焼成炉及び加工設備をご案内いたします。 『黒鉛化炉』は、3000℃超の超高温領域における、材料（主に黒鉛系）の 試作開発等を目的とした炉です。 直接通電加熱方式による高速加熱が可能なほか、条件によりサイクルタイム 8時間以内が可能です。（加熱室の開放及び強制冷却ファンによる冷却時間短縮） 【設備仕様】 ■直接通電加熱方式 装置名：次郎長3000 ■最高使用温度：3200℃（常用使用温度：3000℃） ■ワークゾーン：φ250mm×高さ300mm ■雰囲気：Arガス ■圧力：加熱運転時 2kPaG ■真空性能：到達真空度 67Pa（0.5Torr）より高真空 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
中間に真空シールドアのある2室型タイプ！油冷とガス冷が可能な焼入れ炉
『TVO』は、中間に真空シールドアのある2室型タイプで、冷却室は油冷とガス冷が可能な真空油焼入れ炉です。 油焼入れにサーボモータ採用で焼入れ品質向上、油への投入時間約1sec及び高速振動を実現しました。 【特長】 ○冷却処理で加熱室を冷やさないので再加熱エネルギーの節約 ○搬入出時に加熱室が大気に触れないので無酸化処理に最適 ○圧力変化の少ない真空加熱で断熱材が長寿命 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【技術資料付き】最大0.4MPaの加圧で、ボイド率を大幅低減。急速冷却でプロセス効率化。フラックスレスはんだ付けにも対応
『VPF300』は、チャンバー内を真空（減圧）状態にできるだけでなく、気圧を0.4MPaまで加圧できるため、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なはんだ付けを実現する真空・加圧リフロー炉です。 チャンバー内の圧力や加熱温度など、ワーク毎にプロセス条件を設定でき、独自の急速冷却機能により、効率的な加熱・冷却が可能。 また、ギ酸還元リフロー、フォーミングガスリフローに対応しており、 フラックスレスのはんだ付けプロセスを構築することもできます。 2023年モデルは冷却機構を改良し、メンテナンス性を向上しました。 【特長】 ■300×300mmとワイドな有効加熱エリア ■最大加熱温度は450℃ ■真空チャンバーは観察用窓を装備 ■直感的に操作できるタッチパネルGUIを採用 ※「PDFダウンロード」より製品資料をご覧いただけます。 テストをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。
金属非鉄の真空熱処理や金属焼結粉末の熱処理などに使用可能！炉型式真空炉
炉型式真空炉は、金属非鉄の真空熱処理や金属焼結粉末の熱処理などに 使用することができます。 横置型、ポット型、ベル型などがあります。なお、横置型には予熱室、 加熱室、冷却室を設置する3室真空炉も設計製作致します。 【特長】 ■横置型には予熱室、加熱室、冷却室を設置する3室真空炉も設計製作可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最大450℃までの加熱設定、ギ酸還元プロセス対応、基板冷却機能標準装備
プロセスチャンバー内の圧力を変化させることでハンダ内部のボイドを大幅に減少させ、高品質なボイドレスはんだ付けが可能な卓上型の真空リフロー炉です。 加熱エリアは200mmｘ200mmｘ高さ50mm、上下からの加熱に対応しており、圧力は大気圧から10Paの範囲で任意に設定可、対象ワークに応じて柔軟に圧力・加熱プロファイルを設定できます。 保温機能付のギ酸バブラーユニット（オプション）を使用することで、安定した濃度でギ酸と窒素の混合ガスを生成し、還元反応によってワークの酸化膜を除去、フラックスを使用しないフラックスレスはんだ付けプロセスにも対応可能です。
ダイレクト排気で処理物質内雰囲気がクリーンに！均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能！
脱脂・脱ガス・焼結・冷却の省エネルギーでの連続処理を可能にした堅型真空＆加圧熱処理炉！ 超硬合金の焼結（脱脂）、MIM製品の焼結、ガス真空加圧焼入れ、磁性材料の焼結、高融点材料の熱処理などに使用されています。用途に合わせて3つのラインナップをご用意しております。 【特徴】 ○均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能 ○製品の装入作業性に優れる ○効率的排気・安定したクリーンな処理雰囲気 ○加熱・冷却負荷を低減し、省エネルギーを実現 ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてください。
TITANシリーズのプラットフォームを流用した低温用真空炉！
『TITAN LT』は、Ipsenの独自のフロー生産プロセスで製造された低温用真空炉です。 生産性・短納期・操作性における費用対効果の高い真空炉で、特に真空加熱による光輝処理に最適です。 【用途】 焼鈍、ろう付け、光輝時効処理、応力除去、焼き戻し 【特長】 ■独自の制御用ソフトウェア搭載 ■物温測定、物温管理が容易 ■Ipsen独自のヒーター構造 ■昇温用の対流加熱では2barまで加圧可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多目的高温炉
仕様 温度：常用2200℃ 最高2300℃ 真空中最高2200℃ 昇温時間：常温〜2200℃ 60分 真空度：到達5×10-5Torr 試料ケース：焼結用φ150×φ130×120H モールド：ホットプレス用 φ60×120H 等方性黒鉛製 圧力：雰囲気加圧9.5kg／cm2 ホットプレス総圧 10TON 温度調節：熱電対、単色温度検出デジタル プログラムＰＩＤ調節 記録：３ＰＥＮ記録計(温度、プレス圧、試料厚変位) 加熱：黒鉛製抵抗発熱体加熱 40KW 冷却水：50L／min 2〜4ＫＧ／cm2 32℃以下
半導体製造工程などで使用する高純度ガスボンベ内に付着している不純物を除去する装置です。
ボンベの内壁に付着している不純物を加熱真空引きにより取り除きます ボンベサイズ、同時処理本数はカスタマイズにて対応します 自動機、手動機など予算に合わせご提案します 【特長】 ■ボンベの均一な加熱が可能です（Max200℃）。炉内温度±約1％ 。 ■ボンベ加熱と同時にボンベの安全弁への冷却も可能です（熱による安全弁の破損防止の為） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください
均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能な堅型の真空加圧脱脂焼結炉！
当製品は、脱脂・脱ガス・焼結・冷却の省エネルギーでの連続処理を 可能にした堅型真空加圧脱脂焼結炉です。 特殊ダイレクト排気機構、タイトボックスレス構造を採用し、 効率的排気と安定したクリーンな処理雰囲気を実現しました。 また、タイトボックスレス構造の採用により、加熱・冷却負荷を低減して 省エネルギー設計です。 ユーザーフレンドリーなインターフェイスを備える電源装備です。 【特長】 ■均一雰囲気・均一加熱・均一冷却が可能 ■製品の装入作業性に優れる ■効率的排気・安定したクリーンな処理雰囲気 ■加熱・冷却負荷を低減し、省エネルギーを実現 ■安全性向上 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
カーボンヒータユニット、試料移載ユニットを装着した真空高温抵抗合成炉
『真空高温抵抗合成炉』は、不活性ガス雰囲気で、高温に加熱し試料を 合成するための抵抗加熱装置です。 装置は上下分割チャンバーを採用しておりますので、試料の合成を 効率よく行えます。 ヒータ温度、バルブ動作、流量制御をレシピにて管理し、自動制御にて 運転をする事が可能です。 【特長】 ■装置は上下分割チャンバーを採用 ■試料の合成を効率よく行える ■加熱効率の良い抵抗加熱方式を採用 ■最大1,800℃まで昇温可能 ■視認性・操作性に優れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高品質、高性能、デザイン性に優れた次世代の真空ガス焼入れ炉！
真空ガス焼入れ炉『TVG』は加熱室と冷却室を中間真空ドアで仕切る2 室型真空熱処理装置です。 高砂工業の真空炉は、通常の真空炉製品と比べ、デザイン（意匠）にこだわっています。デザインにこだわる事で、導入されたお客さまの中には、 工場見学ツアーのメインとして、好評を博していると評判いただいています。 また、機械がむき出しの製品に比べ、ゴミや埃などを防ぐ事もできるので、メンテナンスの頻度を下げる事ができます。もちろん、すぐに取り外しができるので、メンテナンスの邪魔になる事はありません。 【特長】 ■加熱室構成部品はグラファイト材料を使用！ ■炉内の搬送は電動モータのプッシュプラー式でインバータ制御！ ■搬出入時に加熱室が大気に触れないので無酸化処理に最適！ ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
過電流･ヒーター/熱電対断線検出･真空/昇降部異常検知！独立した温度管理素子による2重の安全機構
『VF-5000』は、保温性に優れたセラミックファイバーにヒーターを 埋込んだ一体成型により熱効率が良くスピーディーな昇温と最高到達 1100℃を実現する自動真空・ガス置換電気炉です。 7インチカラータッチパネルの採用により、プログラム入力など簡単設定。 工程の進捗状況も画面表示で一目で確認できます。 【特長】 ■保温性に優れたセラミックファイバーにヒーターを埋込んだ一体成型 ■熱効率が良くスピーディーな昇温と最高到達1100℃を実現 ■真空引き･ガス供給をプログラム制御 ■加熱前の面倒な真空･ガス置換と加熱中の雰囲気を自動制御 ■7インチカラータッチパネルの採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高い保持温度精度を実現する真空熱処理炉
『PQシリーズ』は、幅広い冷却ガス圧に対応可能な横型真空炉です。 加熱室内面はシールド板で被覆することで断熱材の飛散を抑制。 オプションとしてモリブデン板で被覆することで、加熱室内の放射効率を高め 温度分布均一性および均一加熱性を向上します。 また、低温度から高温度までの広範囲において、熱処理品の均一加熱と 分布の均一性を最良にするため、ヒータを上下および両サイドの4面に配置し、 前後方向に3分割制御しています。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ドアを採用し加圧下での安全性向上 ■加熱室下方からの冷却ガス吹き込み ■減圧：87kPa、加圧：130kPa～200kPa（オプション：280kPa）による冷却が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
